為了使蒸發(fā)材料氣化，在真空蒸發(fā)過程中,，大多數(shù)蒸發(fā)材料都必須在1100~1750C溫度下進行蒸發(fā),，因此，必須采用各種加熱方法將蒸發(fā)材料加熱,，通常把真空設(shè)備中對蒸發(fā)材料進行加熱的零件稱為蒸發(fā)源。蒸發(fā)鍍膜的蒸發(fā)源有多種形式,，如電阻加熱源,、電子?xùn)|加熱源、高頻感應(yīng)加熱源等,，大面積玻璃基片蒸發(fā)鍍膜常用電阻加熱源,。