鍍膜玻璃蒸鍍法的方法
為了使蒸發(fā)材料氣化,,在真空蒸發(fā)過(guò)程中,,大多數(shù)據(jù)發(fā)材料都必須在10001750C溫度下進(jìn)行蒸發(fā),因此,,必須采用各種加熱方法將蒸發(fā)材料加熱,,通常把真空設(shè)備中對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行加熱的零件稱為蒸發(fā)源,。蒸發(fā)鍍膜的蒸發(fā)源有多種形式,,如電阻加熱源,、電子束加熱源、高頻感應(yīng)加熱源等,,大面積玻璃基片蒸發(fā)鍍膜常用電阻加熱源,。
1電阻蒸發(fā)源蒸鍍法
采用租,、鉬,、鎢等高熔點(diǎn)金屬,,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,,讓氣流通過(guò),,對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放人氧化鋁,,氧化鈹?shù)熔釄逯羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā),,這就是電阻加熱蒸發(fā)法。
(1)電阻加熱源
電阻加熱源是用高阻抗材料構(gòu)成,,當(dāng)電流通過(guò)加熱源時(shí)產(chǎn)生大量的熱能,,用此熱量來(lái)加熱蒸發(fā)材料。加熱源是加熱體和支撐蒸發(fā)材料的支承物,,形狀有單股絲狀螺旋形,、多股絲狀螺旋形、“凹"形舟,、方形舟,、圓錐形單股絲等,它們是直接加熱蒸發(fā)源,。間接加熱蒸發(fā)源由坩堝和加熱體組成,,將粉狀蒸發(fā)材料放人坩堝中,加熱體裝在坩堝外面,,用加熱體加熱坩堝而間接加熱粉狀蒸發(fā)材料,。為了加速加熱粉狀蒸發(fā)材料及提高加熱效率,將加熱體分成兩部分,,一部分裝在坩堝外面,,另一部分插人粉狀蒸發(fā)材料中,共同加熱粉狀蒸發(fā)材料,,此種類型則是綜合型加熱蒸發(fā)源,。電阻蒸發(fā)源形狀示意圖如圖4-10所示。
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