相對于本線low E玻璃而音,，在線LowE政確所要求的技術(shù)性較高，主要體現(xiàn)在以下幾個方面:

　?、馘兡で膀?qū)體配方的研究

　　劑的配比,。應(yīng)根據(jù)Low~E玻璃的性能指標(biāo),，確定有機(jī)錫化合物、有機(jī)硅化合物及各種助,。

　?、诟缮嫔目刂芁owE玻璃膜層為摻雜的二氧化錫，折射率較高(1.8左右),， 因此易產(chǎn)生干涉條紋引起彩虹,。所以應(yīng)在Low-E膜層與玻璃之間加一層光學(xué)過渡層， 以便消除內(nèi)反射引起的彩虹,。

　?、勰ず穸鹊目刂?/p>

　　Low-E膜層太薄，達(dá)不到紅外反射率,、輻射率,、表面電阻達(dá)不到要求;而膜層太厚時，紅外反射,、表面電阻,、輻射率的指標(biāo)很好，但可見光透過率,、霧度的指標(biāo)不好,，因此應(yīng)合理選擇膜層厚度，同時,，由于Low-E玻璃的底膜,、頂膜性能不一樣,，故厚度需適當(dāng)調(diào)節(jié)。

　?、苣泳鶆蛐缘目刂?/p>

　　在鍍膜過程中,，極易出現(xiàn)膜層不均勻而影響產(chǎn)品質(zhì)量的問題，主要是粉末液滴相對于物料蒸氣的顆粒要大得多,，而且物料的性質(zhì)決定了其鍍膜結(jié)構(gòu),，而氣體就可以采取多層料，多層排廢的辦法,，使多層鍍膜成功解決了膜層均勻性問題,。

　　⑤氣幕的設(shè)計

　　Low-E玻璃的膜層是氧化物形成的薄膜,，在鍍膜中要引人氧氣參加反應(yīng),，對于錫槽中介人氧氣是極其有害的，一旦氧氣泄漏到錫槽中將產(chǎn)生不可估計的損失,，為避免這種情況,，應(yīng)在鍍膜器上設(shè)計專用的氣幕，從而避免氧氣的泄漏,。