研磨后的玻璃表面有凹陷層,，下面還有裂收展，因此玻璃表面是敢光而不透明的,。必須把四陷層及裂紋層都拋去才能獲得光亮的玻璃,。因而,，總計(jì)要拋去玻璃層厚度10~15m.對(duì)于光學(xué)玻璃等要求高的玻璃,，必須把個(gè)別最大的裂紋也拋去，則總拋去厚度還要多,、在一般生產(chǎn)條件下,，玻璃的拋光速度僅為8~15pm/h.因此所需要拋光時(shí)間比研磨時(shí)間長(zhǎng)得多。減小玻璃研磨的凹陷深度就是縮短拋光時(shí)間,，常常在研磨的最后階段用細(xì)一些的膺料或軟質(zhì)的研磨盤等措施來獲得研磨表面淺的凹陷層,。另外采用合適的工藝條件，也能提高拋光效率而縮短加工時(shí)間,，影響拋光的工藝因素分述如下,。

　　(1)拋光材料的性質(zhì)、濃度和給料量

　　水在拋光過程中比在研磨過程中所起的化學(xué)物理化學(xué)作用更為明顯,，因此拋光懸浮液濃度對(duì)拋光效率的影響是很敏感的,，若使用紅粉，一般以密度1. 10~1.14g cm2為宜,。剛開始拋光時(shí),，采用較高的濃度，以便拋光盤吸收較多的紅粉,，玻璃表面溫度也可提高,，拋光效阜高。但拋光的后-階段則逐步降低,，否則玻璃表面溫度過高易破裂,，同時(shí)紅粉也易于在拋光盤表面形成硬膜，使玻璃表面擦傷,。拋光懸浮液的給料量,，如圖2-11所示，用量多,，效率(磨除量)增高,，但過量時(shí)，效率反而降低,，各種不同的條件下都有最適宜的用量,。

　　(2)拋光盤的轉(zhuǎn)速和壓力

　　拋光盤的轉(zhuǎn)速和壓力與拋光效率之間存在著正比關(guān)系。轉(zhuǎn)速和壓力增大,，拋光材料和玻璃作用的機(jī)會(huì)增多,、加劇，玻璃表面溫度增高,，反應(yīng)加速:反之就低,。拋光盤轉(zhuǎn)速和壓力增大的同時(shí)必須相應(yīng)增加地光村料懸浮液給料量，否則,，玻璃溫度過高易破,，也容易擦傷,。