以前人們認為玻璃的拋光與研磨都是磨料對玻璃的機械作用，只是拋光的磨粒更細,。英國學(xué)者雷萊用顯微鏡觀察到拋光開始,， 研磨表面凹陷項部就出現(xiàn)了拋光得極好的不大的區(qū)域，隨著拋光而繼續(xù)擴大,。所以他認為不應(yīng)該將拋光看作只是從表面剝落玻璃碎屑,，而是在拋光物質(zhì)的作用下，發(fā)生分子過程。另一位英國學(xué)者培比認為玻璃由于干摩擦產(chǎn)生的熱面培化成-黏滯液在表面流動,，并在表面張力的作用下,，使玻璃表面光滑。此流動層稱為“培比層”,，約為0.025~0. lμm厚,。玻璃拋光時,，除將研磨后表面的凹陷層(3~4m)全部拋除外,，還需要將凹陷層下面的裂紋層(0-~15m)也拋光除去。這個厚度雖比研磨時期除的原龐小將多(僅為研磨時磨去的厚度的140-1/20但是指光過程所第時間卻比研重過程要多(為新廉時間的2倍或更多),，即拋光效豐比研磨放奉低得多,。